L'obiettivo è rispondere alle esigenze del settore dei semiconduttori in cui le larghezze delle linee dei circuiti diventano sempre più sottili
TOKYO: Dai Nippon Printing Co., Ltd. è riuscita a sviluppare un processo di fabbricazione della fotomaschera impiegabile con il processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) da 3 nanometri (10-9 metri), il processo all’avanguardia per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttori.
DNP risponde continuamente alle richieste dei produttori di dispositivi a semiconduttori in termini di prestazioni e qualità. Nel 2016 siamo diventati il primo produttore commerciale di fotomaschere al mondo a lanciare lo strumento di incisione di fotomaschera multifascio (MBMW, multi-beam mask writing). Nel 2020, abbiamo sviluppato un processo di fabbricazione della fotomaschera per i processi di litografia EUV da 5 nm e da allora realizziamo maschere che rispondono alle esigenze del settore dei semiconduttori.
Fonte: Business Wire
ENEA, Cnr e Consorzio RFX guidano il piano triennale per lo sviluppo di reattori modulari, fusione e formazione d'eccellenza.
08-05-2026
Carapelli Blu è l’output dello studio dell’Istituto Nutrizionale Carapelli-Fondazione ETS e dell’Università di Perugia che identifica il blu come tipologia di vetro più efficace nella conservazione dell’olio extravergine di oliva.
08-05-2026
In questo contributo, a cura di Samuele Franchini, Business Development Manager Ascom Italia, parliamo di trasformazione digitale della sanità, che non è solo una questione tecnologica, ma è anche soprattutto organizzativa. In un contesto segnato da crescente complessità clinica, carenza di personale e sistemi informativi frammentati, l’interoperabilità emerge come elemento chiave per migliorare efficienza, sicurezza e qualità dell’assistenza.
08-05-2026
Il nuovo modello di Social Cost of Carbon quantifica l'impatto delle emissioni, includendo danni a salute, biodiversità e stabilità sociale. “Non dobbiamo più solo chiederci quanto costa emettere, ma quale valore si può generare evitando di farlo", spiega Luca Conti, CEO di E.ON
08-05-2026
Come denuncia il WWF, questa domenica è il Country Overshoot Day italiano, come anche dichiara il Global Footprint Network. In soli 123 giorni abbiamo già esaurito il “budget ecologico” dell’intero anno. Da lunedì 4 maggio in poi vivremo in deficit ecologico. Nel 2025 la data di Overshoot era stata il 6 maggio, questo significa che la nostra impronta ecologica complessiva sta continuando a peggiorare.
L'Istituto Italiano di Tecnologia potenzia la protesi liquida con l'ossido di grafene, aumentando la sensibilità alla luce e avvicinando la sperimentazione clinica per i pazienti ipovedenti.
Dall’8 al 10 maggio scienziati, imprese e istituzioni si confrontano sulle frontiere della tecnologia e delle Life Sciences, concludendo con la XX edizione del prestigioso Premio letterario Galileo.
Auriga ha esplorato l'impatto della guida autonoma sul modello operativo del car sharing, integrando la tecnologia del Politecnico di Milano all’interno della piattaforma digitale di vehicle sharing B2-Ride, sviluppata da Auriga e già utilizzata dalla controllata Pikyrent. Il robo-sharing si configura come un modello ibrido tra car sharing e robo-taxi, in cui la guida autonoma non sostituisce l’utente, ma interviene nelle fasi operative per migliorarne l’efficienza e la qualità del servizio.