DNP sviluppa un processo di fotomascheratura per litografia EUV da 3 nm
Business Wire L'obiettivo è rispondere alle esigenze del settore dei semiconduttori in cui le larghezze delle linee dei circuiti diventano sempre più sottili
TOKYO: Dai Nippon Printing Co., Ltd. è riuscita a sviluppare un processo di fabbricazione della fotomaschera impiegabile con il processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) da 3 nanometri (10-9 metri), il processo all’avanguardia per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttori.
DNP risponde continuamente alle richieste dei produttori di dispositivi a semiconduttori in termini di prestazioni e qualità. Nel 2016 siamo diventati il primo produttore commerciale di fotomaschere al mondo a lanciare lo strumento di incisione di fotomaschera multifascio (MBMW, multi-beam mask writing). Nel 2020, abbiamo sviluppato un processo di fabbricazione della fotomaschera per i processi di litografia EUV da 5 nm e da allora realizziamo maschere che rispondono alle esigenze del settore dei semiconduttori.
Fonte: Business Wire
Se questo articolo ti è piaciuto e vuoi rimanere sempre informato
Related news
Ultime Notizie
Burgo Energia si aggiudica il bando GSE: via libera all'approvvigionamento di biometano
L'azienda si è aggiudicata la fornitura di un massimo di 100 milioni di metri cubi di biometano certificato, accelerando la decarbonizzazione dei processi produttivi e l'evoluzione energetica nel settore cartario.
25-08-2026
Samsung trasforma la salute digitale con l'intelligenza artificiale per l'analisi dei biosignali
I nuovi modelli fondazionali xMAE e HiMAE consentono ai dispositivi indossabili di monitorare il benessere in modo preventivo, continuo ed efficiente, portando l'analisi dei dati direttamente sullo smartwatch.
25-08-2026
Università Vita-Salute San Raffaele e PoliMi: proclamata la prima laureata in Health Informatics
Giulia Caffi è la prima dottoressa a completare il percorso magistrale congiunto tra i due atenei, unendo la formazione medica alle competenze ingegneristiche e informatiche per sviluppare le neurotecnologie del futuro.
25-08-2026
European Energy ottiene 234 milioni di euro per il maxi impianto agrivoltaico di Vizzini in Sicilia
Finanziato da un pool di primarie banche europee, il progetto da 225 MW integrerà la produzione di energia rinnovabile su scala industriale con le attività agricole e la tutela della biodiversità, beneficiando dello schema statale FerX.
25-08-2026
Notizie più lette
1 Record storico per i consumi elettrici a luglio in Italia: +8,3% spinto dalle ondate di calore
Secondo i dati diffusi da Terna, la domanda mensile ha raggiunto quota 32,5 TWh a causa delle temperature eccezionalmente elevate. Crescono anche la produzione industriale e il fotovoltaico, che porta le rinnovabili a coprire il 41,5% del fabbisogno.
2 OpenAI espande Daybreak e lancia GPT-5.6-Cyber per la sicurezza informatica avanzata
La nuova piattaforma introduce livelli di accesso governati, prestazioni record nella ricerca delle vulnerabilità e una vasta rete di partner strategici per proteggere le organizzazioni dalle minacce digitali.
3 Capital Markets Day di Scanfil il 29-30 settembre a Cortona, Italia
Siamo lieti di invitare investitori, analisti e rappresentanti dei media al Capital Markets Day di Scanfil, che si svolgerà il 29-30 settembre 2026 nell'impianto principale nonché sede di MB Elettro...
4 GenBio AI sviluppa il primo modello di mondo della cellula umana
GenBio AI ("GenBio") è una società specializzata in IA per uso scientifico, cofondata dal premio Nobel David Baker, dallo scienziato leader in ambito IA Eric Xing e da altri importanti ricercatori n...
G11 Media Networks
InnovationCity e' un canale di BitCity, testata giornalistica registrata presso il tribunale di Como ,
n. 21/2007 del 11/10/2007- Iscrizione ROC n. 15698
G11 MEDIA S.R.L.
Sede Legale Via NUOVA VALASSINA, 4 22046 MERONE (CO) - P.IVA/C.F.03062910132
Registro imprese di Como n. 03062910132 - REA n. 293834 CAPITALE SOCIALE Euro 30.000 i.v.
