L'obiettivo è rispondere alle esigenze del settore dei semiconduttori in cui le larghezze delle linee dei circuiti diventano sempre più sottili
TOKYO: Dai Nippon Printing Co., Ltd. è riuscita a sviluppare un processo di fabbricazione della fotomaschera impiegabile con il processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) da 3 nanometri (10-9 metri), il processo all’avanguardia per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttori.
DNP risponde continuamente alle richieste dei produttori di dispositivi a semiconduttori in termini di prestazioni e qualità. Nel 2016 siamo diventati il primo produttore commerciale di fotomaschere al mondo a lanciare lo strumento di incisione di fotomaschera multifascio (MBMW, multi-beam mask writing). Nel 2020, abbiamo sviluppato un processo di fabbricazione della fotomaschera per i processi di litografia EUV da 5 nm e da allora realizziamo maschere che rispondono alle esigenze del settore dei semiconduttori.
Fonte: Business Wire
SME AI Accelerator è un percorso di formazione pratica e gratuita, accessibile tramite la OpenAI Academy. Il programma, pensato specificamente per le micro e piccole imprese, non richiede alcuna competenza tecnica pregressa. L'obiettivo è mostrare casi d'uso concreti: dal risparmio di tempo nella gestione burocratica al miglioramento del servizio clienti, fino all'ottimizzazione dei flussi di lavoro. Primo appuntamento, Milano il 15 maggio.
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La startup fondata da Max Hodak, ex presidente di Neuralink, entra nella fase clinica con un sensore che usa la stimolazione elettrica per rigenerare i tessuti danneggiati.
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